產品詳情
無掩膜光刻機UTA系統是基于DLP投影技術和金相顯微鏡相結合的縮小投影型無掩模曝光系統，其價格遠低于傳統系統（用于掩膜光刻的圖案投影曝光系統）； 可以使用專門為此目的開發的軟件來創建想要的光刻圖案。
UTA產品簡介
- 顯微鏡LED曝光單元UTA系列是不需要掩模的用于光刻的圖案投影曝光裝置。
- 使用金相顯微鏡和LED光源DLP投影儀，將具有機微米分辨率的任意圖案投影到涂有抗蝕劑的基板上進行曝光。
- 圖案可以在PC上自由創建。
- 因為可以在普通的室內環境中在各種大小盒形狀的單晶薄片上形成電極，所以它比電子束光刻便宜且簡單，不需要制造昂貴的電極圖案掩膜板。
技術參數
- 由于顯微鏡和DLP的結合，可以用很低的成本來構建系統;
- 易于使用的軟件可以輕松的創建曝光圖案;
- 通過物鏡放大倍率圖案，可以進行大范圍的批量曝光;
- 可以連接到您自己的顯微鏡上（選項）;
- 分辨率在微米級,最小刻度1um。
- 曝光范圍：最大2.5mm×1.5mm 最小100um×60um
應用案例
- 薄膜FET和霍爾效應測量樣品的電極形成。
- 從石墨烯/鉬原石中剝離電極形成并評估其特性。
- 研發應用的圖案形成。
光刻前的模擬（紅光）
白光刻蝕（可設置時間）
相關研究資料
